PHOTOLITHOGRAPHIC CRITICAL DIMENSION CONTROL USING RETICLE MEASUREMENTS,申请号EP20020784585-传众专利搜索

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发明名称	PHOTOLITHOGRAPHIC CRITICAL DIMENSION CONTROL USING RETICLE MEASUREMENTS
摘要
申请公布号	EP1470447(A1)	申请公布日期	2004.10.27
申请号	EP20020784585	申请日期	2002.11.25
申请人	INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION	发明人	RANKIN, JED, H.;SCHNEIDER, CRAIN, E.;SMYTH, JOHN, S.;WATTS, ANDREW, J.
分类号	G03C5/00;G01D18/00;G03F7/20;G06F17/50;G06F19/00;G21K5/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03C5/00	主分类号	G03C5/00
代理机构		代理人
主权项
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