透明导电膜和制备该透明导电膜的组合物

摘要

本发明公开了一种双层结构的低电阻和低反射率的透明导电膜，其包括高反射率的在二氧化硅基体中含细金属粉末的底涂层和低反射率的基于二氧化硅的涂层，其适合于赋予CRT电磁波屏蔽性能和防眩性能。导电底涂层除细金属粉末外还可以包括一种黑色粉末(例如钛黑)。在该底涂层中，可以这样分布细金属粉末的二级颗粒以便形成具有其中不含细金属粉末的孔的二维网状结构。另外，底涂层的表面上具有凹凸不平之处：底涂层凸部分的平均厚度是50～150纳米和凹部分的平均厚度是凸部分平均厚度的50～85％，凸部分的平均高度是20～300纳米。这里也公开了各种不同的形成底涂层的涂层材料，每一种涂层材料均包括分散溶液，在该分散溶液中细金属粉末分散在含或不含烷氧基硅烷的溶剂中。通过在基体上涂覆该涂层材料，干燥所涂覆的膜，并且在该膜上涂覆烷氧基硅烷或其水解产物以得到本发明透明导电膜。

主权项

1、形成透明导电膜的组合物，其中含分散剂的溶剂包括通过分散平均初级颗粒尺寸为5～50纳米的细金属粉末而制成的分散溶液；所述的细金属粉末形成二级颗粒，该二级颗粒的颗粒尺寸分布是10％累积颗粒尺寸最高达60纳米，50％累积颗粒尺寸为50～150纳米和90％累积颗粒尺寸为80～500纳米。