Dispositivo para processar um substrato, tambor para processamento rotativo de uma primeira camada de um substrato de múltiplas camadas, e, métodos para processar um estrutura tridimensional na primeira camada de um substrato, e para anexar uma ferramenta á superfìcie de um plano de ferramenta de um dispositivo para processar um substrato

摘要

"DISPOSITIVO PARA PROCESSAR UM SUBSTRATO, TAMBOR PARA PROCESSAMENTO ROTATIVO DE UMA PRIMEIRA CAMADA DE UM SUBSTRATO DE MúLTIPLAS CAMADAS, E, MéTODOS PARA PROCESSAR UM ESTRUTURA TRIDIMENSIONAL NA PRIMEIRA CAMADA DE UM SUBSTRATO, E PARA ANEXAR UMA FERRAMENTA á SUPERFìCIE DE UM PLANO DE FERRAMENTA DE UM DISPOSITIVO PARA PROCESSAR UM SUBSTRATO". Um dispositivo e método para processar um substrato, caracterizado pelo fato de meio absorvedor de força flexível ser provido em pelo menos parte de um plano de ferramenta e/ou plano de reação de modo a absorver, localmente, as forças aplicadas pelos planos. O meio de absorção de forças flexível tendo propriedades como as de mola de modo que ele seja adaptado para ser elasticamente deformado quando o plano de ferramenta e o plano de reação forem prensados um contra o outro.