发明名称 一种发光构件和使用该发光构件之发光键盘
摘要 一种发光构件,包括有:一光源、一导光单元和一导光板。导光单元具有一第一入光区与一第一出光区,该第一入光区邻接该光源,导光板具有一第二入光区及一第二出光区,该导光板之该第二入光区邻接该导光单元之该第一出光区,其中该光源所发出的光线系经由该第一出光区及该第二入光区导入该导光板,并藉由该导光板将光线引导出该第二出光区。并且利用此发光构件作为键盘之光源,以达到发光之功效。
申请公布号 TWM247941 申请公布日期 2004.10.21
申请号 TW092218441 申请日期 2003.10.17
申请人 达方电子股份有限公司 发明人 江治湘;蔡磊龙
分类号 G06F3/023 主分类号 G06F3/023
代理机构 代理人 何文渊 台北市信义区松德路一七一号二楼
主权项 1.一种发光构件,其系包括有:一光源;一导光单元,具有一第一入光区与一第一出光区,该第一入光区邻接该光源;一导光板,具有一第二入光区及一第二出光区,该导光板之该第二入光区邻接该导光单元之该第一出光区;其中该光源所发出的光线系经由该第一出光区及该第二入光区导入该导光板,并藉由该导光板将光线引导出该第二发光区。2.如申请专利范围第1项所述之发光构件,其中该导光板更包括复数个第一反射体,设置于该第二出光区下方。3.如申请专利范围第1项所述之发光构件,其中该第一出光区与该导光板之该第二入光区相结合。4.如申请专利范围第1项所述之发光构件,其中该导光单元外层更包括一第二反射体,可使该光源所发出之光线经由该第二反射体反射至该第一出光区。5.如申请专利范围第3项所述之发光构件,其中该导光板和该导光单元其系为同一材质以一体成型制作。6.如申请专利范围第5项所述之发光构件,其中该导光板与该导光单元夹一既定角度。7.如申请专利范围第2项所述之发光构件,其中该第一出光区与该些第一反射体系实质上排列于一直线上。8.如申请专利范围第1项所述之光源装置,该第一入光区更具有一第一凹槽,且该光源系内嵌于该第一凹槽中。9.如申请专利范围第1项所述之发光构件,其中该光源其系为一发光二极体(LED)。10.如申请专利范围第1项所述之发光构件,其中该第一出光区为一凸柱,可将该光源所发出之光线导入该导光板。11.如申请专利范围第10项所述之光源装置,其中该导光板设置有一第二凹槽,该凸柱可崁入于该第二凹槽中。12.一种发光键盘,其系包括有:一底板;复数个按键,分别具有一透光区,且分别以可上下运动之方式设置于该底板之上;一发光构件,设置于该按键下方,该发光构件包括:一光源;一导光单元,具有一第一入光区与一第一出光区,该第一入光区邻接该光源;一导光板,具有一第二入光区及一第二出光区,该导光板之第二入光区邻接该导光单元之该第一出光区;其中该光源所发出的光线系经由该第一出光区及该第二入光区导入该导光板,并藉由该导光板将光线引导至该按键之该透光区。13.如申请专利范围第12项所述之发光键盘,其中该导光板更包括复数个第一反射体,设置于该第二出光区下方,其中光线可经由该第一反射体反射至该按键之该透光区。14.如申请专利范围第12项所述之发光构件,其中该第一出光区与一第二入光区相结合。15.如申请专利范围第12项所述之发光构件,其中该导光单元外层更包括一第二反射体,可使该光源所发出之光线经由该第二反射体反射至该第一出光区。16.如申请专利范围第14项所述之发光构件,其中该导光板和该导光单元其系为同一材质以一体成型制作。17.如申请专利范围第16项所述之发光键盘,其中该导光板与该导光单元夹一既定角度。18.如申请专利范围第12项所述之发光构件,其中该第一出光区与该些第一反射体系实质上排列于一直线上。19.如申请专利范围第12项所述之光源装置,该第一入光区更具有一第一凹槽,且该光源系内嵌于该第一凹槽中。20.如申请专利范围第12项所述之发光构件,其中该光源其系为一发光二极体(LED)。21.如申请专利范围第12项所述之发光构件,其中该第一出光区系一凸柱,可将该光源所发出之光线导入该导光板。22.如申请专利范围第21项所述之光源装置,其中该导光板设置有一第二凹槽,该凸柱可崁入于该第二凹槽中。图式简单说明:图一A和图一B所示,分别为本创作之发光构件10第一较佳实施例的立体图和侧视图。图二A和图二B所示,分别为本创作之发光构件10a第二较佳实施例的立体图和侧视图。图三A和图三B所示,分别其为本创作之发光构件10b第三较佳实施例的立体图和侧视图。图四其为本创作之发光构件10b之另一实施态样。图五A及图五B所示,分别为本创作之发光构件10c第四较佳实施例之立体图和侧面剖视图。图六其系为本创作之发光键盘较佳实施例。
地址 桃园县龟山乡枫树村一邻六号