发明名称 具套管之静电消除喷嘴结构
摘要 本创作系提供一种具套管之静电消除喷嘴结构,其主要系该离子放射针与该喷嘴之间置设一套管,俾以延长该离子放射针尖端周围与该喷嘴之间距距离,俾当该离子放射针经电晕放电产生正负离子时,俾可避免该离子放射针之尖端周围与该喷嘴之间产生电弧,进达改善漏电、高温积炭现象,并可抵抗电晕放电所产生之臭氧,俾达防止臭氧破坏该喷嘴周围组件,进而改善粉尘现象,且藉由该喷嘴将正负离子传导至目标物上,进达中和消除目标物所带的静电之目的者。
申请公布号 TWM248017 申请公布日期 2004.10.21
申请号 TW092222419 申请日期 2003.12.22
申请人 海丰科技股份有限公司 发明人 高俊杰
分类号 H01L21/265;H01T19/04 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人 林宜宏 台北县新庄市昌隆街八十八号四楼
主权项 1.一种具套管之静电消除喷嘴结构,包含: 一离子放射针,该离子放射针系释放正、负离子; 一喷嘴,系用以传导正、负离子于目标物,又该喷 嘴系接设于该套管一端; 一套管,该套管系置设于该离子放射针与喷嘴之间 。 2.依申请专利范围第1项所述之一种具套管之静电 消除喷嘴结构,其中该套管为陶瓷材质。 3.依申请专利范围第1项所述之一种具套管之静电 消除喷嘴结构,其中该套管可为铁氟龙材质。 4.依申请专利范围第1项所述之一种具套管之静电 消除喷嘴结构,其中该喷嘴为金属管材质。 5.依申请专利范围第1项所述之一种具套管之静电 消除喷嘴结构,其中该喷嘴可为可弯曲金属软管。 图式简单说明: 第一图系本创作之立体示意图。 第二图系本创作喷嘴置设于可弯曲金属软管之示 意图。 第三图系习用之示意图。
地址 台北县中和市建一路一五○号十四楼之三