发明名称 电晶体及具有该电晶体之显示装置
摘要 本发明之电晶体,系在平面性地重叠于闸极电极之半导体层之上,相互间以既定间隔所形成之源极电极及汲极电极分别为具有长轴方向之形状,在上述源极电极处系形成收纳上述汲极电极前端部之凹部,同时在上述半导体层处系形成由上述闸极电极突出而跟闸极电极未重叠但跟上述源极电极或汲极电极重叠之突出部。藉此,重叠于源极电极之突出部及重叠于汲极电极之突出部系被闸极电极所遮蔽而相互呈独立状态,由闸极电极突出的半导体岛状物就可防止因为肇因于未被闸极电极遮住的光等造成之光电变换作用而导致的带有导电性以及源极、汲极间之短路现象。
申请公布号 TWI222746 申请公布日期 2004.10.21
申请号 TW090124804 申请日期 2001.10.08
申请人 三洋电机股份有限公司;鸟取三洋电机股份有限公司 发明人 森田聪;小林修;小田幸平
分类号 H01L29/768;G02F1/136 主分类号 H01L29/768
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种显示装置,其以矩阵状配置闸极配线与源极 配线,并于上述闸极配线与上述源极配线之交叉部 设置电晶体,其特征在于: 上述电晶体系在平面性地重叠于闸极电极之半导 体层之上,形成以既定间隔相互面向之源极电极及 汲极电极; 上述源极电极、汲极电极皆为具有长轴方向之形 状; 在上述源极电极处系形成收纳上述汲极电极前端 部之凹部; 同时在上述半导体层处系形成由上述闸极电极突 出而跟闸极电极未重叠但跟上述源极电极和汲极 电极重叠之突出部,且重叠于上述源极电极之突出 部及重叠于上述汲极电极之突出部系被上述闸极 电极所遮蔽而相互呈独立状态; 上述半导体层中,与闸极电极重叠且面向于源极电 极之未面向于汲极电极之侧边的部分,具有沿着源 极电极轮廓的轮廓形状;以及 上述汲极电极与上述源极配线大抵呈平行配置。 2.如申请专利范围第1项所述之显示装置,其中上述 闸极配线及上述源极配线所区划化出的区域内配 置上述电晶体及连接于该电晶体之像素电极,并在 上述闸极配线及重叠于该闸极配线所配置的下一 段像素电极之间配置上下夹于闸极绝缘膜与保护 膜的辅助电容用电极,且将在用以连接上述辅助电 容用电极及上述像素电极之上述保护膜中所形成 的接触孔配置于偏向上述电晶体存在之侧,同时在 位于上述辅助电容用电极之上的上述像素电极之 边缘处,于跟上述接触孔存在之侧相反之侧形成缺 口部。 3.一种电晶体,系在平面性地重叠于闸极电极之半 导体层之上,形成以既定间隔相互面向之源极电极 及汲极电极,其特征在于: 上述汲极电极之面向于上述源极电极之边缘形状 为圆角之凸曲线; 上述源极电极之面向于上述汲极电极之边缘形状 为对应于汲极电极之边缘形状的凹曲线; 上述源极电极之未面向于上述汲极电极之边缘,在 源极电极之宽度大抵维持固定条件下,呈沿着源极 电极之面向于上述汲极电极之边缘的凸曲线; 在上述半导体层处系形成由上述闸极电极突出而 跟上述源极电极和汲极电极重叠之突出部,且重叠 于上述源极电极之突出部及重叠于上述汲极电极 之突出部系被上述闸极电极所遮蔽而相互呈独立 状态;以及 上述半导体层中,与闸极电极重叠且面向于源极电 极之未面向于汲极电极之侧边的部分,系沿着源极 电极轮廓局部切除。 4.一种电晶体,系在平面性地重叠于闸极电极之半 导体层之上,形成以既定间隔相互面向之源极电极 及汲极电极,其特征在于: 上述汲极电极之面向于上述源极电极之边缘形状 为凸圆弧; 上述源极电极之面向于上述汲极电极侧的边缘,在 源极电极和汲极电极之间隔大抵维持固定条件下, 呈沿着汲极电极之边缘的凹圆弧; 上述源极电极之未面向于上述汲极电极侧的边缘, 在源极电极之宽度大抵维持固定条件下,呈沿着源 极电极之面向于上述汲极电极侧之边缘的凸圆弧; 在上述半导体层处系形成由上述闸极电极突出而 跟上述源极电极和汲极电极重叠之突出部,且重叠 于上述源极电极之突出部及重叠于上述汲极电极 之突出部系被上述闸极电极所遮蔽而相互呈独立 状态;以及 上述半导体层中,与闸极电极重叠上面向于源极电 极之未面向于汲极电极之侧边的部分,具有沿着源 极电极轮廓之轮廓形状。 5.一种显示装置,系使用如申请专利范围第3或4项 所述之电晶体来作为显示用电晶体,其特征在于: 令闸极配线及源极配线配置成矩阵状,并于上述闸 极配线及源极配线之交叉部设置上述电晶体,且令 上述电晶体之上述汲极电极跟上述源极配线大抵 成平行来配置。 6.一种显示装置,系使用如申请专利范围第3或4项 所述之电晶体来作为显示用电晶体,其特征在于: 令源极配线及闸极配线配置成矩阵状,并于上述源 极配线及闸极配线之交叉部设置上述电晶体,且令 上述电晶体之上述汲极电极跟上述源极配线大抵 成直角来配置。 7.如申请专利范围第5项所述之显示装置,其中,在 由上述闸极配线及上述源极配线所区划化出的区 域内配置上述电晶体及连接于该电晶体之像素电 极,并在上述闸极配线及重叠于该闸极配线所配置 的下一段像素电极之间配置上下夹于闸极绝缘膜 与保护膜的辅助电容用电极,且将在用以连接上述 辅助电容用电极及上述像素电极之上述保护膜中 所形成的接触孔配置于偏向上述电晶体存在之侧, 同时在位于上述辅助电容用电极之上的上述像素 电极之边缘处,于跟上述接触孔存在之侧相反之侧 形成缺口部。 8.如申请专利范围第6项所述之显示装置,其中,在 由上述闸极配线及上述源极配线所区划化出的区 域内配置上述电晶体及连接于该电晶体之像素电 极,并在上述闸极配线及重叠于该闸极配线所配置 的下一段像素电极之间,配置上下夹于闸极绝缘膜 与保护膜的辅助电容用电极,且将在用以连接上述 辅助电容用电极及上述像素电极之上述保护膜中 所形成的接触孔配置于偏向上述电晶体存在之侧, 同时在位于上述辅助电容用电极之上的上述像素 电极之边缘处,于跟上述接触孔存在之侧相反之侧 形成缺口部。 图式简单说明: 第1图系表示本发明第1实施例之TFT阵列的基本结 构平面图。 第2图系表示沿第1图中之A-A线的剖面图。 第3图系表示上述第1实施例的TFT结构之模型示意 平面图。 第4图系表示上述第1实施例的TFT阵列结构之平面 图。 第5图系表示本发明第2实施例的TFT阵列之基本结 构平面图。 第6图系表示沿第1图中之B-B线的剖面图。 第7图系表示上述第2实施例的TFT结构之模型示意 平面图。 第8图系表示上述第2实施例的TFT阵列结构之平面 图。 第9图系表示本发明第3实施例的TFT结构之模型示 意平面图。 第10图系表示上述第3实施例的TFT阵列结构之平面 图。 第11图系表示习知的TFT结构之模型示意平面图。 第12图系表示跟第11图相同的平面图但不同的状态 。 第13图系表示跟第11图相同的平面图但另一不同的 状态。
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