| 摘要 |
Ein Siliziumsubstrat (50) wird in eine Kaliumhydroxidlösung (20) eingetaucht. Danach wird eine Hauptoberfläche (51) des Siliziumsubstrats (50), das in die Kaliumhydroxidlösung eingetaucht ist, durch Anlegen eines elektrischen Potentials an das Siliziumsubstrat (50) anodisiert, wobei das Siliziumsubstrat (50) als eine Anode verwendet wird, so daß ein Oxidfilm (70) in der Hauptoberfläche (51) des Siliziumsubstrats (50) ausgebildet wird. Danach wird eine Hauptoberflächenseite (51) des Siliziumsubstrats (50) in der Kaliumhydroxidlösung geätzt.
|
