曝光装置及元件制造方法

摘要

本发明提供一种曝光装置，其在投影光学系统与基板之间充满液体进行曝光处理时，能抑制因液体中之气泡所造成图案像之恶化。曝光装置，系在投影光学系统与基板P间之至少一部分充满液体，透过投影光学系统与液体将图案像投影至基板P上来使基板P曝光，其具备用以检测投影光学系统与基板P间之液体中之气泡的气泡检测器20。