含丙烯酸系聚合物之微影用形成填隙之组成物

摘要

本发明之目的在提供，用于双大马士革制程的，平坦化性、充填性优之用以形成填隙的微影用形成填隙之组成物，其特征为：使用于以光阻被覆于具有高度／直径所示之长宽比1以上的孔之半导体基板，利用微影制程将图像转印于半导体基板上的半导体装置之制造，含有聚合物、交联剂及溶剂。