基板处理装置

摘要

本发明之基板处理装置，以安定且有效率地进行被处理基板之成膜处理为目的，基板处理装置，系具有于与加热部相对之位置支持被处理基板，并使保持被处理基板之保持构件旋转之旋转驱动部。处理容器于制程空间之一侧设置有气体喷射喷嘴部，而于制程空间之另一侧，则形成有延伸于宽度方向之长方形排气口。气体喷射喷嘴部于制程空间之宽度方向配置有成一列的复数个射喷口，可使由复数个射喷口所喷射之气体，以层流状态通过被处理基板之表面之方式，而在制程空间之内部产生安定之气流。因此，可安定被处理基板之成膜处理，且可有效率地进行而提高生产性。