| 摘要 |
本发明为提供一种于形成光阻图案中之显影处理后之乾燥步骤中，可防止微细光阻图案倒塌之光阻图案形成方法。此方法包含将含有硷可溶性单位含量低于20莫耳％，且具有酸解离性溶解抑制基，可因酸作用增加硷可溶性之树脂成分(A)，与经曝光产生酸之酸产生剂成份(B)，与可溶解(A)成分与(B)成分之有机溶剂(C)的正型光阻组成物涂布于基板上，经过预烧培、选择性曝光、进行曝光后加热后，于硷显影后，至少进行1次将残留于前述基板上之液体以取代液取代之取代步骤，其次，再将该取代液以临界乾燥用液体取代后，再将该临界乾燥用液体通过临界状态使其乾燥之乾燥步骤。 |
