发明名称 | 稳定材料层性质的方法 | ||
摘要 | 一种稳定材料层的方法,此方法系将数个存放于晶圆盒之晶圆,依序送入反应室中进行材料层沈积,之后并传送至持续通入特定气体之晶圆盒中存放,直到晶圆盒内所有晶圆都已经过处理。由于在进行材料层之沈积过程中,已形成有材料层之晶圆系存放于持续通入气体的晶圆盒中,因此可有效稳定材料层的性质,并减少出气现象所导致的污染。 | ||
申请公布号 | TW200421412 | 申请公布日期 | 2004.10.16 |
申请号 | TW092107488 | 申请日期 | 2003.04.02 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 陈菁华 |
分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路十二号 |