光阻组成物及使用其之光阻图型之形成方法

摘要

一种光阻组成物，其特征为含有，含有(A)同时具有(i)氟原子或氟化烷基及(ii)醇性羟基之脂肪族环式基之硷可溶性之构成单元(a1)，藉由酸之作用使得硷可溶性变化之聚合物，(B)因光照射使酸产生之酸发生剂，及(C)具有氮原子之溶解抑制剂及／或含有(D)选自(d1)具有极性基之第3级胺，(d2)碳原子数7以上15以下之第3级烷基胺或(d3)铵盬之含氮化合物。该组成物，具有以半导体积体电路之微影法所致之图型加工精度为90nm以下之线与间隙(1：1)良好的形状为可达成之光阻特性。