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发明名称
半导体装置
摘要
本发明之目的是促成当切断形成在半导体装置之熔丝时,可以抑制对邻接之熔丝造成损坏,可以切断对象之熔丝。本发明之解决手段是一种半导体装置,其备有:下层基板;熔丝,形成在下层基板之上方,可以利用光之照射加以切断;氧化矽膜,形成在熔丝上部和露出到下层基板表面之部份之上部;和氮化矽膜,形成在氧化矽膜上;氧化矽膜使形成在上述下层基板表面之部份之膜厚,比上述熔丝厚。另外,在氮化矽膜之形成有熔丝之部份之上方,形成开口。
申请公布号
TW200421420
申请公布日期
2004.10.16
申请号
TW092135359
申请日期
2003.12.15
申请人
瑞萨科技股份有限公司
发明人
藤木谦昌;山下贵司;泉谷淳子
分类号
H01L21/00
主分类号
H01L21/00
代理机构
代理人
赖经臣
主权项
地址
日本
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