| 摘要 |
一种产生互补光罩以用于多重曝光微影成像制程之方法。此一方法包含步骤：确定一目标图案，其具有复数个包括水平与垂直边缘的特征；依据目标图案，产生水平光罩；依据目标图案，产生垂直光罩；执行屏蔽步骤，其中至少目标图案之复数个特征的垂直边缘其中之一，以水平光罩中的屏蔽取代，以及其中至少目标图案之复数个特征的水平边缘其中之一，以垂直光罩中的屏蔽取代，其中该屏蔽具有一宽度，其大于目标图案中相对应特征之宽度；执行辅助特征布置步骤，其中将次解析度辅助特征放置成至少与水平光罩中复数个特征之水平边缘其中之一相平行，以及放置成至少与垂直光罩中复数个特征之垂直边缘其中之一相平行，并执行特征偏置步骤，其中至少调整水平光罩中之复数个特征之水平边缘其中之一，使所得之特征精确地重制目标图案，以及至少调整垂直光罩中之复数个特征之垂直边缘其中之一，使所得之特征精确地重制目标图案。 |
