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发明名称
光罩用空白基板及光罩之制造方法
摘要
本发明系提供一种基板上至少设置一层膜所成之光罩用空白基板之制造方法,基板上形成膜后,藉由闪光灯进行光照射为其特征之光罩用空白基板之制造方法以及于以此方法所制造之光罩用空白基板膜上以微影法形成光阻图案后,以蚀刻法去除膜之光阻非被覆部份,再去除光阻为其特征之光罩制造方法。藉由本发明制造方法可取得反挠度小、高度耐药性之高品质光罩用空白板及光罩。
申请公布号
TW200421011
申请公布日期
2004.10.16
申请号
TW092133894
申请日期
2003.12.02
申请人
信越化学工业股份有限公司
发明人
金子英雄;稻月判臣;塚本哲史;茂木均之;奥村胜弥
分类号
G03F1/08
主分类号
G03F1/08
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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