发明名称 | 单晶圆旋转蚀刻清洗机台之流体收集装置 | ||
摘要 | 本发明揭露一种单晶圆旋转蚀刻清洗机台之流体收集装置,其主要特征在于将可升降之收集单元设置于旋转蚀刻槽壁外侧。该收集单元并具有径向开口,可与旋转蚀刻槽周缘之流体泄出口相通。此收集单元可为环状或管状等形式,且可视所收集流体种类向外增设。而相邻之收集单元之间及/或收集单元与蚀刻槽壁之间可保持紧密接触,不会产生交叉污染。藉由本发明之装置,可分类收集旋转蚀刻清洗槽中之流体而不产生交叉污染。 | ||
申请公布号 | TW200421475 | 申请公布日期 | 2004.10.16 |
申请号 | TW092108322 | 申请日期 | 2003.04.10 |
申请人 | 弘塑科技股份有限公司 | 发明人 | 王家康;张良有 |
分类号 | H01L21/306 | 主分类号 | H01L21/306 |
代理机构 | 代理人 | 苏翔 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹县新竹工业区大同路十三号 |