湿蚀刻装置

摘要

本发明揭示一种湿蚀刻装置，适用于使用草酸溶液的湿蚀刻制程，至少包含：一垂直分隔物，具有一开口，且上述垂直分隔物的外侧为一摆设上述湿蚀刻装置之环境，上述垂直分隔物的内侧为上述湿蚀刻装置之内部环境；一上门板与一下门板，排列在上述垂直分隔物的外侧；一密封材料，位于上述上门板、下门板与上述垂直分隔物之间，并在围绕但不遮蔽上述开口的情形下紧贴并固定在上述垂直分隔物上；一第一蚀刻模组，位于上述垂直分隔物的内侧，与上述垂直分隔物具有一第一距离；以及一第二蚀刻模组，位于上述垂直分隔物的内侧，与上述垂直分隔物具有一第二距离，其中上述第二距离大于上述第一距离。可防止在上述垂直分隔物与上述第一蚀刻模组之间的区域、上述开口、及上述上门板与上述下门板和上述垂直分隔物之间的区域出现草酸结晶而妨害上述湿蚀刻装置的运作。