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发明名称
闸极氧化层厚度之量测方法
摘要
一种量测半导体底材上闸极氧化层厚度之方法。首先,对半导体底材进行快速热回火(rapidthermalprocedure;RTP)以移除附着于该闸极氧化层表面上之湿气与有机物微粒。接着,立即使用椭圆仪量测闸极氧化层之厚度。
申请公布号
TW200421516
申请公布日期
2004.10.16
申请号
TW092108738
申请日期
2003.04.15
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
陈步芳;李东利;彭炳辉;吕超波
分类号
H01L21/66
主分类号
H01L21/66
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区园区三路一二一号
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