发明名称 闸极氧化层厚度之量测方法
摘要 一种量测半导体底材上闸极氧化层厚度之方法。首先,对半导体底材进行快速热回火(rapidthermalprocedure;RTP)以移除附着于该闸极氧化层表面上之湿气与有机物微粒。接着,立即使用椭圆仪量测闸极氧化层之厚度。
申请公布号 TW200421516 申请公布日期 2004.10.16
申请号 TW092108738 申请日期 2003.04.15
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 陈步芳;李东利;彭炳辉;吕超波
分类号 H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区园区三路一二一号