发明名称 | 光学保护薄膜之结构与制作方法 | ||
摘要 | 本发明系揭露一种光学保护薄膜之结构与制作方法,系于一塑胶基板上依序布设由树脂A与树脂B两种不同树脂薄膜层所形成的导电薄膜结构,来达到抗静电和抗眩的功能。其中,藉由在树脂A中添加两种粒径规格之导电粒子,使较大粒径规格之导电粒子的粒径系纵跨于两树脂薄膜层的总厚度之间,且较大粒径规格之导电粒子中至少有部分可接触或暴露于树脂B薄膜层的最上表面,以提供导电与抗静电功能。而树脂B则选择固化后可提供较佳硬度之材质以提供硬质保护之功效,且不需另外添加导电粒子。此外,于较接近树脂B薄膜层的最上表面附近则可添加奈米级的二氧化矽微小粒子,以提供抗眩的功能。 | ||
申请公布号 | TW200420426 | 申请公布日期 | 2004.10.16 |
申请号 | TW092107336 | 申请日期 | 2003.04.01 |
申请人 | 力特光电科技股份有限公司 | 发明人 | 柯顺祥;赖大王;王伯萍;林其宏;黄丰裕;冯修敏 |
分类号 | B32B3/00 | 主分类号 | B32B3/00 |
代理机构 | 代理人 | 何文渊 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县平镇市平东路六五九巷三十七号 |