用以形成磊晶层之方法及装置

摘要

本发明揭示一种藉由化学汽相沈积将基于第IV族元素的磊晶层沈积于一矽基板上的方法，其中将氮或惰性气体之一用作一载体气体，本发明进一步揭示一种化学汽相沈积装置(10)，其包含一具有一气体输入埠(14)及一气体输出埠(16)的室(12)，以及用于将一矽基板安装于该室(12)内的构件(18)，该装置进一步包括一气体来源，其连接至该输入埠并配置用以提供氮气或一惰性气体作为一载体气体。