发明名称 | 基板处理装置及基板处理方法 | ||
摘要 | 本发明系提供可极力抑制粒子的产生且防止升降杆等支持构件转写至基板之制品领域之基板处理装置及基板处理方法。于本发明中,由于依照基板的种类来切换气压缸,故可防止支持杆的痕迹转写至基板之制品领域。又,于本发明中,由于以机台为基准来升降驱动支持杆,故可相对减少气压缸的驱动量,而可极力抑制粒子的产生。 | ||
申请公布号 | TW200421423 | 申请公布日期 | 2004.10.16 |
申请号 | TW092137097 | 申请日期 | 2003.12.26 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 西冈慎二;井光广;村上卓人;田尻健一 |
分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 代理人 | 恽轶群;陈文郎 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |