发明名称 经控制之硫物种沈积方法
摘要 本发明系为一种将具有预定组成之薄膜沉积于一基材上之方法,该薄膜系包含三元、四元或更多元之硫化物化合物,该硫化物化合物系选自由至少一种选自周期表IIA及IIB族之元素的硫代铝酸盐、硫代镓酸盐及硫代铟酸盐(thioindates)所组成之群。该方法系包括将至少一种具有预定组成之硫化物来源材料挥发,以于一基材上形成含有硫之薄膜组合物,同时阻止自该至少一种来源材料挥发之任何过量含硫物种撞击于该基材上。该方法改善采用具有高介电常数之厚膜介电层之全色彩ac电激发光显示器所使用的磷光体的亮度及发射光谱。
申请公布号 TW200420740 申请公布日期 2004.10.16
申请号 TW093101602 申请日期 2004.01.20
申请人 艾费耳技术公司 发明人 辛永保;杰姆 史特利斯;梁志杰;泰瑞 杭特;乔 亚奇恩
分类号 C23C14/06;H05B33/22 主分类号 C23C14/06
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 加拿大