发明名称 电子射线照射装置、电子射线照射方法、碟片状体之制造装置及碟片状体之制造方法
摘要 本发明系一可以容易地使由藉由紫外线照射难以硬化之材料所构成的表面层及/或位于其下方之透光层等之树脂层的至少一者硬化,而使得电子线的累积照射线量沿着被照射面整体大略呈均匀之电子射线照射装置及电子射线照射方法。又,本发明系一可有效率地将由藉由紫外线照射难以硬化的材料所构成的表面层及/或位在其下方之透光层等之树脂层之至少一部分形成在碟片状体上之碟片状体之制造装置及碟片状体之制造方法。电子射线照射装置1具备有可让碟片状体2旋转驱动的旋转驱动部17,可将碟片状体呈可旋转地加以收容的遮蔽容器10,以及如可使电子射线照射在碟片状体之表面之被照射面般地设在遮蔽容器的电子射线照射部11,在碟片状体旋转时,当从电子射线照射部将电子线照射在被照射面2b时,则电子线的照射线强度成为在碟片状体之半径方向的外周面2d侧较内周面2c侧为大。
申请公布号 TW200421013 申请公布日期 2004.10.16
申请号 TW092125763 申请日期 2003.09.18
申请人 TDK股份有限公司 发明人 田中和志;宇佐美守;米山健司
分类号 G03F7/00;G11B7/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本