| 发明名称 |
清洗微影投影装置之组件表面之方法,微影投影装置,元件制造方法及清洗系统 |
| 摘要 |
本发明揭示清洗微影投影装置之组件表面之方法、微影投影装置、元件制造方法及清洗系统。本发明揭示一种用以将微影投影装置(1)之组件(101)表面(104)至少一部分之污染物(105)去除之清洗方法(100)，包含：清洗粒子供应器，用以在靠近该表面之处提供清洗粒子，该清洗粒子供应器包含用以产生电场(107)之电场产生器(106，V)。本发明另提供一种用以将微影投影装置(1)之组件(101)表面(104)至少一部分之污染物(105)去除之方法。该方法包含于该微影投影装置至少一部分产生电场；利用该电场(107)在靠近该污染物处提供清洗粒子；及由该清洗粒子和该污染物之互相作用去除该污染物，藉此自该表面(104)去除污染物(105)。 |
| 申请公布号 |
TW200421016 |
申请公布日期 |
2004.10.16 |
| 申请号 |
TW092136236 |
申请日期 |
2003.12.19 |
| 申请人 |
ASML公司;卡尔赛塞斯(SMT)半导体制造科技公司 CARL ZEISS SMT AG 德国 |
发明人 |
李唯斯 派特 贝克;罗夫 克特;贝堤安 玛希亚 麻登斯;玛卡斯 威斯;乔汉 特克乐;沃夫甘 席革 |
| 分类号 |
G03F7/00;C23F4/00 |
主分类号 |
G03F7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
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| 地址 |
荷兰 |
