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发明名称 Plasmabehandlungeinrichtung und Plasmabehandlungsverfahren
摘要
申请公布号 DE10296932(T5) 申请公布日期 2004.10.14
申请号 DE20021096932T 申请日期 2002.08.20
申请人 MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO. LIMITED, KADOMA 发明人 ARITA, KIYOSHI;IWAI, TETSUHIRO;TERAYAMA, JUNICHI
分类号 H01L21/3065;H01L21/683;(IPC1-7):G21K5/08;H05H7/00 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
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