发明名称 |
在处理工具之间输送小批量衬底载体的系统和方法 |
摘要 |
本发明在第一方面,提供了一种管理小批量半导体器件制造装置中的在制品的方法。该第一种方法包括:提供一个小批量半导体器件制造装置,该装置具有(1)若干个处理工具;和(2)一个在处理工具间适于输送小批量衬底载体的高速输送系统。所述第一种方法还包括:维持小批量半导体器件制造装置中一预定的在制品级别,通过(1)增加所述小批量半导体器件制造装置中低优先级衬底的平均生产周期;和(2)减少所述小批量半导体器件制造装置中高优先级衬底的平均生产周期从而近似地维持小批量半导体器件制造装置中所述已预定的在制品级别。本发明也提供了许多其他方面。 |
申请公布号 |
CN1536615A |
申请公布日期 |
2004.10.13 |
申请号 |
CN200410033057.8 |
申请日期 |
2004.01.27 |
申请人 |
应用材料有限公司 |
发明人 |
迈克尔·R·赖斯;埃里克·安德鲁·恩格尔哈德;维内·沙;马丁·R·埃利奥特;罗伯特·B·劳伦斯;杰弗里·C·赫金斯 |
分类号 |
H01L21/00;B65G49/07 |
主分类号 |
H01L21/00 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
董敏 |
主权项 |
1.一种管理小批量半导体器件制造装置中的在制品的方法,包括:提供一个小批量半导体器件制造装置,该装置具有:多个处理工具;以及一个在处理工具间适于输送小批量衬底载体的高速输送系统;以及维持小批量半导体器件制造装置中一个预定的在制品级别其通过如下步骤维持:增加小批量半导体器件制造装置中低优先级衬底的平均生产周期;以及减少小批量半导体器件制造装置中高优先级衬底的平均生产周期,从而近似地维持小批量半导体器件制造装置中所述预定的在制品级别。 |
地址 |
美国加利福尼亚 |