发明名称 低温直接还原制铁装置
摘要
申请公布号 TW004718 申请公布日期 1969.04.01
申请号 TW013580 申请日期 1968.08.02
申请人 二口孙一 发明人 二口孙一
分类号 C21B 主分类号 C21B
代理机构 代理人
主权项
地址 日本国东京都文京区千石1丁目829