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经营范围
发明名称
低温直接还原制铁装置
摘要
申请公布号
TW004718
申请公布日期
1969.04.01
申请号
TW013580
申请日期
1968.08.02
申请人
二口孙一
发明人
二口孙一
分类号
C21B
主分类号
C21B
代理机构
代理人
主权项
地址
日本国东京都文京区千石1丁目829
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