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发明名称 ALD APPARATUS AND METHOD
摘要 <p>An apparatus and method for atomic layer deposition with improved efficiency of both chemical dose and purge is presented. The apparatus includes an integrated equipment and procedure for chamber maintenance.</p>
申请公布号 EP1466034(A1) 申请公布日期 2004.10.13
申请号 EP20030731983 申请日期 2003.01.17
申请人 SUNDEW TECHNOLOGIES, LLC 发明人 SNEH, OFER
分类号 C23C16/44;C23C16/455;C23C16/56;H01L21/00;H01L21/31;H01L21/687;(IPC1-7):C23C16/455;G05D16/00 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
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