| 发明名称 |
Device manufacturing method and mask set for use in the method |
| 摘要 |
Isolated dark features, e.g. contact holes or lines, are exposed in a double exposure, using different illumination settings in the two exposures. <IMAGE> <IMAGE> <IMAGE> <IMAGE> <IMAGE> <IMAGE> <IMAGE> |
| 申请公布号 |
EP1467256(A1) |
申请公布日期 |
2004.10.13 |
| 申请号 |
EP20040252066 |
申请日期 |
2004.04.07 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS;FINDERS, JOSEF MARIA |
| 分类号 |
G03F1/00;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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