| 主权项 |
1.一种涮烤两用锅,系包括: 锅主体,其系直接与热源接触并可提供一用以盛装 烹煮食物之置放空间; 固接于锅主体上且与锅主体底部相通之空心柱体; 以及 接合于空心柱体顶端并可组卸之烤盘。 2.如申请专利范围第1项之涮烤两用锅,其中,该空 心柱体系固接于锅主体之中央位置。 3.如申请专利范围第1项之涮烤两用锅,其中,该烤 盘系藉由空心柱体以架高叠接方式接合于锅主体 上方,用以节省桌面之使用空间。 4.如申请专利范围第3项之涮烤两用锅,其中,该烤 盘与热源间系间隔有一适当距离,其选取之原则系 为可令使用者便于煎烤烤盘、取用锅主体中所盛 装之食物及热能所含能量仍可对烤盘进行加热其 中之一者。 5.如申请专利范围第1项之涮烤两用锅,其中,该空 心柱体顶端系为一用以承接烤盘之第一接合部,以 与该烤盘底部所形成之相对的第二接合部相卡合, 以将该烤盘以可组卸之方式,固接于该空心柱体上 。 6.如申请专利范围第5项之涮烤两用锅,其中,该空 心柱体之第一接合部系于该空心柱体顶端周围所 形成之复数个嵌合凹部,且该第二接合部系形成于 该烤盘底部之复数个嵌合凸部,俾由该嵌合凸部卡 合接至嵌合凹部,以使烤盘固接至该空心柱体上而 防止烤盘因外力而转动。 7.如申请专利范围第1项之涮烤两用锅,其中,该空 心柱体上部另开设有复数个气流孔洞,用以将二氧 化碳排出,以避免二氧化碳累积于烤盘底部而减少 热空气对烤盘底部之加热效果。 8.如申请专利范围第7项之涮烤两用锅,其中,该气 流孔洞系可造成空心柱体内气体因压力差而自动 经由气流孔洞排出,以形成热对流效应,并吸引热 空气往上窜升,而对烤盘所煎烤之食物形成一稳定 的供应热源。 9.如申请专利范围第1项之涮烤两用锅,其中,该空 心柱体系用以作为热源所产生之热空气向上窜升 至烤盘底部之通道,俾令该热源可同时供应锅主体 及烤盘所组群组之一者所需之热能。 图式简单说明: 第1(a)图至第1(d)图系为习知火烤两用锅之结构示 意图; 第2图系为本创作之涮烤两用锅于组装前之立体结 构示意图; 第3图系为本创作之涮烤两用锅于组装完成之立体 结构示意图;以及 第4图系为本创作之涮烤两用锅于实际使用时之侧 面剖视图。 |
