| 发明名称 |
DISPOSITIF OPTIQUE A STABILITE MECANIQUE RENFORCEE FONCTIONNANT DANS L'EXTREME ULTRAVIOLET ET MASQUE DE LITHOGRAPHIE COMPORTANT UN TEL DISPOSITIF |
| 摘要 |
Optical device reflecting a range of wavelengths between 10 and 20 nanometers (nm) has an alternance of first and second superimposed layers. The first layers are of metal or metal compound and the second layers are of amorphous silicon.
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| 申请公布号 |
FR2853418(A1) |
申请公布日期 |
2004.10.08 |
| 申请号 |
FR20030004071 |
申请日期 |
2003.04.01 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
QUESNEL ETIENNE |
| 分类号 |
G02B1/10;G02B5/08;G02B5/26;G03F1/24;G21K1/06;H01L21/027;(IPC1-7):G02B1/10;H01L21/033 |
主分类号 |
G02B1/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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