发明名称 Vorrichtung und Verfahren zum Reduzieren der elektronenstrahlinduzierten Abscheidung von Kontaminationsprodukten
摘要 In einer Einrichtung zur Untersuchung eines Objektes mit einem Elektronenstrahl, insbesondere einem REM, TEM oder SEM, entstehen durch die Bestrahlung oftmals Kontaminationen. Zur Reduzierung dieser Kontaminationen wird die mit dem Elektronenstrahl bestrahlte Oberfläche des Objektes gleichzeitig mit Licht, insbesondere mit UV-Licht, beleuchtet.
申请公布号 DE10313644(A1) 申请公布日期 2004.10.07
申请号 DE20031013644 申请日期 2003.03.26
申请人 LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH 发明人 SPILL, BURKHARD
分类号 G21K7/00;H01J37/02;(IPC1-7):H01J37/02 主分类号 G21K7/00
代理机构 代理人
主权项
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