光刻标记结构、光刻投射装置和进行基片对准的方法

摘要

在基底上用于所述基底光学对准的标记结构，所述标记结构包括多个第一结构元件和多个第二结构元件，在使用所述标记结构中，用于提供所述的光学对准，根据设置直接照射在所述标记结构上的至少一个光束，用传感器检测从所述标记结构上接收到的光线，由所述被检测的光确定对准信息，所述对准信息包括与所述基底到所述传感器的位置相关的信息。

主权项

1.在基底上用于所述基底光学对准的标记结构，所述标记结构包括多个第一结构元件和多个第二结构元件，在使用所述标记结构中，用于提供所述的光学对准，根据-设置直接照射在所述标记结构上的至少一个光束，-用传感器检测来自所述标记结构上的光线，-由所述被检测的光确定对准信息，所述对准信息包括与所述基底到所述传感器的位置相关的信息；所述标记结构的更多的特征在于所述第一结构元件有第一高度(level)的第一反射面，所述第二结构元件是完全非反射的，第二反射面位于第二较低高度上，在所述第一和第二反射面间的隔离度用于确定所述被检测的光线的位相深度状态，其中，在所述第二反射面上给出一凹槽(R1；R2；R3)以便调整所述位相状态。