发明名称 用于离子注入机的可调传动限制缝隙
摘要 一种带电微粒射束装置包括:带电微粒射束源,用于在下游方向上沿着射束路径引导带电微粒射束到达靶;和确定靶腔的处理台。处理台包括腔分隔物,该分隔物在带电微粒束处理靶期间,将靶腔分为上游和下游区域。靶被置于下游区域,并且分隔物具有从其上穿过的缝隙,该缝隙的尺寸允许带电微粒射束穿过到达靶,而几乎没有阻挡,并且限制气体回流到腔的上游区域。分隔物将暴露于在靶上产生的外部核素的射束体积最小化,由此减少射束变化碰撞的可能性。
申请公布号 CN1535470A 申请公布日期 2004.10.06
申请号 CN02805094.0 申请日期 2002.01.16
申请人 瓦里安半导体设备联合公司 发明人 安东尼·丽奥;埃里克·戴维·赫曼森;杰·托马斯·施尤尔
分类号 H01J37/18;H01J37/317;H01J37/09 主分类号 H01J37/18
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 过晓东
主权项 1.一种带电微粒射束装置,包括:带电微粒射束源,用于在下游方向上沿着射束路径引导带电微粒射束到达靶;以及确定靶腔的处理台,该处理台包括腔分隔物,该分隔物在带电微粒束处理靶期间,将靶腔分为上游和下游区域,靶被置于下游区域,并且分隔物具有从其上穿过的缝隙,该缝隙的尺寸允许带电微粒射束穿过到达靶,而几乎没有阻挡,并且限制气体回流到腔的上游区域。
地址 美国马萨诸塞州