发明名称 |
用于离子注入机的可调传动限制缝隙 |
摘要 |
一种带电微粒射束装置包括:带电微粒射束源,用于在下游方向上沿着射束路径引导带电微粒射束到达靶;和确定靶腔的处理台。处理台包括腔分隔物,该分隔物在带电微粒束处理靶期间,将靶腔分为上游和下游区域。靶被置于下游区域,并且分隔物具有从其上穿过的缝隙,该缝隙的尺寸允许带电微粒射束穿过到达靶,而几乎没有阻挡,并且限制气体回流到腔的上游区域。分隔物将暴露于在靶上产生的外部核素的射束体积最小化,由此减少射束变化碰撞的可能性。 |
申请公布号 |
CN1535470A |
申请公布日期 |
2004.10.06 |
申请号 |
CN02805094.0 |
申请日期 |
2002.01.16 |
申请人 |
瓦里安半导体设备联合公司 |
发明人 |
安东尼·丽奥;埃里克·戴维·赫曼森;杰·托马斯·施尤尔 |
分类号 |
H01J37/18;H01J37/317;H01J37/09 |
主分类号 |
H01J37/18 |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
过晓东 |
主权项 |
1.一种带电微粒射束装置,包括:带电微粒射束源,用于在下游方向上沿着射束路径引导带电微粒射束到达靶;以及确定靶腔的处理台,该处理台包括腔分隔物,该分隔物在带电微粒束处理靶期间,将靶腔分为上游和下游区域,靶被置于下游区域,并且分隔物具有从其上穿过的缝隙,该缝隙的尺寸允许带电微粒射束穿过到达靶,而几乎没有阻挡,并且限制气体回流到腔的上游区域。 |
地址 |
美国马萨诸塞州 |