| 发明名称 | 真空吸引系统及其控制方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种真空吸引系统，能将工件稳定地装填到工件传送工作台的工件收容孔内，而且能稳定地排出。真空吸引系统设有：具有工件收容孔(5)的工件传送工作台(2)；具有与工件传送工作台(2)的工件收容孔(5)相连通的真空吸引沟(7)的工作台基座(3)。这些工件收容孔(5)和真空吸引沟(7)借助真空管路(9)而与真空发生源(17)相连通。在真空管路(9)上连接着负压传感器(10)、根据该负压传感器(10)输出的信号、将压缩空气发生源(20)输出的压缩空气送入到真空管路(9)内，使真空管路(9)内的真空度稳定。 | ||
| 申请公布号 | CN1533969A | 申请公布日期 | 2004.10.06 |
| 申请号 | CN200410002916.7 | 申请日期 | 2004.01.20 |
| 申请人 | 东京威尔斯股份有限公司 | 发明人 | 小岛智幸;松川繁;阿部博晃 |
| 分类号 | B65G47/91;H01L21/68;H05K13/00 | 主分类号 | B65G47/91 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张天安;郑建晖 |
| 主权项 | 1.一种真空吸引系统，其特征在于，具有：真空泄漏发生部；与该真空泄漏发生部相连接的真空吸引机构；与该真空吸引机构相连接的、调整泄漏发生部中的真空度的真空度调整机构。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||