发明名称 | 高耦合效率的超辐射发光二极管 | ||
摘要 | 本实用新型为一种高耦合效率的超辐射发光二极管,它由半导体衬底100上依次外延生长多层半导体材料,顺次包括缓冲层101、隔离层102、台面波导层103、有源层104、上波导层105、电极接触层106和电流注入条区,衬底下表面有金属电极109,在电流注入条区上面有上电极108,该发光二极管集成了锥形波导结构,连续地改变波导的有效折射率,使之产生锥形的分布,从而扩展模场、实现模场圆化,同时发光管的前后出光端面镀增透膜来抑制器件激射。此结构的超辐射发光二极管大大提高了与光纤耦合效率。适合于制作大功率的超辐射发光二极管。 | ||
申请公布号 | CN2646872Y | 申请公布日期 | 2004.10.06 |
申请号 | CN03254133.3 | 申请日期 | 2003.05.23 |
申请人 | 武汉光迅科技有限责任公司 | 发明人 | 张瑞康;王正选;刘涛;黄晓东 |
分类号 | H01L33/00 | 主分类号 | H01L33/00 |
代理机构 | 武汉开元专利代理有限责任公司 | 代理人 | 唐正玉 |
主权项 | 1、一种超辐射发光二极管,它由半导体衬底(100)上依次外延生长多层半导体材料,顺次包括缓冲层(101)、隔离层(102)、台面波导层(103)、有源层(104)、上波导层(105)、电极接触层(106)和电流注入区,衬底下表面有金属电极(109),在电流注入区上面有上电极(108),其特征在于在上波导层(105)中集成了锥形波导结构,该锥形波导由条形区(110)和锥形区(111)构成,其中锥形区的锥尖宽度为0.2~1μm。 | ||
地址 | 430074湖北省武汉市洪山区邮科院路88号 |