发明名称 | 基片处理设备 | ||
摘要 | 当将前敞口单元化箱(80a,80b)分别安装到格架(111d,121c)上时,格架(121a,121b,121c)即分别由气缸(127a,127b,127c)驱动而沿垂向运动。前敞口单元化箱(80b)由此移动到前敞口单元化箱(80a)上而形成空间(129),用以保证前敞口单元化箱(80a)的输送路径。前敞口单元化箱(80a)于是可输送到格架(141)上而不需将前敞口单元化箱(80b)移动到另一格架之上,这样就提高了基片的处理量。 | ||
申请公布号 | CN1534726A | 申请公布日期 | 2004.10.06 |
申请号 | CN200410031411.3 | 申请日期 | 2004.03.29 |
申请人 | 大日本屏影象制造株式会社 | 发明人 | 光吉一郎 |
分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
主权项 | 1.基片处理设备,它包括:用于在基片上执行预定处理的基片处理单元;以及用以保持于其中存储基片的容器且将此容器中存储的基片输送到上述基片处理单元的基片输送单元;其中,上述基片输送单元包括:将此容器安装于其上而将此容器中的存储的基片运送到此基片处理单元的安装部;包含有按第一预定间隔沿垂向排列的多个第一格架的第一格架行,每个第一格架上能安装上述容器;设于上述安装部与第一格架行之间,且包含有按第二预定间隔沿垂向排列的多个第二格架,每个第二格架上能安装上述容器;用来将此第一格架行的多个第一格架中至少一个对象与此多个第二格架中对应的一个相对于其余的沿垂向位移的位移件,由此保证了容器输送路径的高度大于该第二格架行中的第二预定间隔;以及用来将安装于这多个第一格架上的上述对象格架上的容器沿上述位移件形成的容器输送路径依水平方向输送到上述安装部上且保持此容器的输送件。 | ||
地址 | 日本京都府京都市 |