| 发明名称 | 用于光刻设备的支撑结构 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光刻投影设备，其具有用于支撑和移动物体如基底(W)，的支撑结构。该支撑结构可以是一机器人(8)。机器人(8)具有机械手(10)，其配有用于支撑例如基底(W)的支撑架(18)。支撑架(18)具有一个或更多的夹子(20、22、24)用于在移动过程中保持物体(W)。机械手包括一个或更多的适应部件(14、26、28)。夹子可以是具有被氧化了上表面的Johnson－Raybeck效应型夹子。为了更好地松开，射频交流衰减松开电压被提供给夹子。该设备可以只用一个基底清洁。 | ||
| 申请公布号 | CN1534386A | 申请公布日期 | 2004.10.06 |
| 申请号 | CN200410031854.2 | 申请日期 | 2004.03.30 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | P·A·J·廷内曼斯;E·J·布伊斯;S·N·L·当德斯;J·范埃普;J·F·胡格坎普;A·L·H·J·范米尔;P·J·C·H·斯穆德斯;F·A·C·J·斯潘杰斯;J·P·M·B·维梅尤恩;R·维斯塞;H·G·特根博斯;J·C·A·范登伯格;H·J·A·范德桑德;T·维沃特 |
| 分类号 | G03F7/20;H01L21/00 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 章社杲;郑建晖 |
| 主权项 | 1、用于在光刻设备中保持和移动物体的支撑结构，该支撑结构包括一个夹子，其用于夹紧所述物体并设置有适应部件。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||