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发明名称
半导体元件及其制造方法
摘要
本发明提供一种半导体元件及其制造方法,该半导体元件之动作具有较佳之稳定性。此半导体元件具备:至少于背面的一部分上具有差排集中区之基板,及形成于基板表面上之半导体元件层,及形成于基板背面上的差排集中区之绝缘膜,及接触于基板背面的差排集中区以外区域而形成之背面侧电极。
申请公布号
TW200419862
申请公布日期
2004.10.01
申请号
TW093102474
申请日期
2004.02.04
申请人
三洋电机股份有限公司
发明人
雅幸;户田忠夫;冈本重之;井上大二朗;别所靖之;野村康彦;山口勤
分类号
H01S5/00
主分类号
H01S5/00
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
日本
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