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经营范围
发明名称
利用遮光手段的曝光装置,曝光方法,薄膜电晶体的制造方法,显示装置及电子机器
摘要
本发明的目的是在于提供一种可以高密度来形成不同的曝光区域,且具有适合于缩小装置全体大小的构成之曝光装置。其解决手段是在用以曝光任意的曝光区域之曝光装置中具备:曝光射束的照射装置(280),其系具有用以曝光上述曝光区域的规定射束宽(B);遮光板(S),其系至少具有相当于曝光射束的射束宽的宽度;及驱动装置(110),其系藉由驱动上述遮光板来遮断上述曝光射束的一部份或全部,阻止该曝光射束(B)到达上述曝光区域(DA)以外的区域。
申请公布号
TW200419314
申请公布日期
2004.10.01
申请号
TW093104126
申请日期
2004.02.19
申请人
精工爱普生股份有限公司
发明人
入口千春
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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