用于热处理之雷射扫描装置及方法

摘要

本说明书揭露利用被扫描之雷射辐射以热处理一基板的装置与方法。该装置包括一连续辐射源和一在该基板上形成一影像之光学系统。该影像相对于该基板表面被扫描，俾使处理区域中的每一点皆可接收一足以处理该区域之辐射脉冲。