发明名称 矽膜形成用组合物及矽膜形成方法
摘要 本发明系有关于一种包含矽粒子及分散媒之矽膜形成用组合物,以及一种矽膜形成方法,其系于基体上形成上述矽膜形成用组合物之涂膜,其次进行瞬间溶融、热处理或光处理。依据该组合物及方法,可有效率且简便地形成如作为用于太阳能电池之矽膜且具有所欲膜厚之多晶矽膜。
申请公布号 TW200418724 申请公布日期 2004.10.01
申请号 TW092123202 申请日期 2003.08.22
申请人 JSR股份有限公司 发明人 松木安生;岩泽晴生;加藤仁史
分类号 C01B33/02 主分类号 C01B33/02
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本