发明名称 |
具有用以阻挡或消除慢光子载子之阻障层之高速光二极体及其形成方法 |
摘要 |
一种结构(及形成该结构之方法),其包括:一光侦测器;一形成于该光侦测器之下的基板;及一形成于该基板上方的阻障层。该埋入式阻障层较佳包括单或双p-n接面,或一用以在漂移场为低之区域中阻挡或消除慢光子产生之载子的气泡层。 |
申请公布号 |
TW200419817 |
申请公布日期 |
2004.10.01 |
申请号 |
TW092130230 |
申请日期 |
2003.10.30 |
申请人 |
万国商业机器公司 |
发明人 |
凯 摩希 可翰;桂昆C. 耀;杰瑞米 丹尼尔 沙巴 |
分类号 |
H01L31/08 |
主分类号 |
H01L31/08 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
美国 |