发明名称 局部洗净化装置
摘要 仅局部地使晶圆或液晶基板面上或需要清净环境的机器的特定部分洗净化。本发明是将由空气供给装置21与可挠管23连结的清净空气喷出装置22设置于被加工物上或需要清净环境的机器的特定部分,藉由自该清净空气喷出装置22连续地吹出清净空气,以局部清净晶圆面上或液晶基板面上或需要清净环境的机器的特定部分。
申请公布号 TWI221756 申请公布日期 2004.10.01
申请号 TW091124804 申请日期 2002.10.24
申请人 近藤工业股份有限公司;剑桥过滤器有限公司 发明人 木崎原稔郎
分类号 H05K3/26 主分类号 H05K3/26
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种局部洗净化装置,其特征为:将喷出于洁净室内的清净空气中的一部分空气从吸气口吸入并加压的空气供给装置;连结开口于该空气供给装置的送气口与清净空气喷出装置的吸入口的可挠管;及在该清净空气喷出装置的喷出筒前端部的所要形状的喷出开口部设置过滤器,藉由该过滤器更清净化上述清净空气作为高清净空气,连续地喷出于被加工物或需要清净空气的机器的特定部分,俾将这些的表面保持清净。2.如申请专利范围第1项所述的局部洗净化装置,其中,在空气供给装置设置薄型的空气加压装置,较理想为设置多翼片风扇。3.如申请专利范围第1项或第2项所述的局部洗净化装置,其中,在空气供给装置的侧面或吸气口侧设置送气口。4.如申请专利范围第1项或第2项所述的局部洗净化装置,其中,在清净空气喷出装置的侧面或上面设置吸入口。图式简单说明:图1是显示本发明的局部洗净化装置A的全体的概略斜视图。图2是显示本发明的局部洗净化装置中的清净空气喷出装置的喷出开口部的概略底面图。图3是显示本发明的局部洗净化装置中的清净空气喷出装置的喷出开口部的其他形态的概略底面图。图4是显示本发明的局部洗净化装置中的清净空气喷出装置的喷出开口部的再其他形态的概略底面图。图5是显示安装本发明的局部洗净化装置于设置于半导体或液晶制造装置内的机器人的例子的概略纵剖面图。图6是显示安装本发明的局部洗净化装置于设置于半导体或液晶制造装置内的转子部的例子的概略纵剖面图。图7是显示安装本发明的局部洗净化装置于设置于半导体或液晶制造装置内的处理台的例子的概略纵剖面图。图8是显示具备机器人的习知的半导体或液晶制造装置的概略纵剖面图。图9是显示具备转子部的习知的半导体或液晶制造装置的概略纵剖面图。图10是显示具备处理台的习知的半导体或液晶制造装置的概略纵剖面图。
地址 日本