| 主权项 |
1.一种合成氟苯苯醚之方法,其包括下列步骤:a)式(Ⅱ)化合物之氢化作用,其中R为一种选自(C1-C5)烷基,(C1-C5)羧烷基,选择性经取代的苯基,选择性经取代的基之基,该氢化反应系在醇性溶剂或卤化溶剂或其混合物中于1至150大气压的压力和60℃至150℃的温度下进行,且系藉由过渡金属与手徵性二膦配位基的错合物所催化,其中该过渡金属系选自于钌,铱和铑所构成的族群,且当过渡金属为钌时,该错合物系选自于下列各物所构成的族群:或式{RuX(对-异丙基甲苯)[BINAP]}+X-化合物,其中X表示卤素原子;或一种选自RuHCl[BINAP]2、Ru2Cl4[BIANP]2-(NEt3)、Ru[BINAP](OAc)2、Ru[BINAP](CF3CO2)2之化合物;或相当于下列各式之一的化合物:,藉此获得具有至少80%镜像异构性过量之式(Ⅲ)4R-镜像异构物,此系根据下反应方案进行:;b)于-20℃与+25℃间之温度,在惰性溶剂与硷性化合物存在下,使式(Ⅲ)化合物与能够将-OH基转换成离去基的试剂反应,其中该试剂系选自于甲苯磺醯氯,苯磺醯氯和甲烷磺醯氯所构成的族群;接着用芝麻醇(3,4-亚甲二氧基酚)进行亲核性取代,其中该芝麻醇(3,4-亚甲二氧基酚)系以与醇性溶剂的混合物形式于硷存在下添加且将所得混合物加热2至4小时;藉此获得具有至少80%镜像异构性过量之式(Ⅳ)4R-镜像异构物衍生物,此系根据下反应方案进行:;c)用氯甲酸苯酯进行化合物(Ⅳ)之N-去烷基化,得到氟苯苯醚(Ⅰ):。2.如申请专利范围第1项之方法,其中R表示乙基。3.如申请专利范围第1项之方法,其中于该过渡金属与手徵性二膦配位基的错合物系在步骤a的氢化混合物中当场制备。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该氢化反应系在5至15大气压的压力和100℃至130℃的温度下进行。5.如申请专利范围第1项之方法,其中该氢化反应系在10大气压的压力和120℃的温度下进行。6.如申请专利范围第1项之方法,其中于步骤a中所用之该醇性或卤化溶剂系选自二氯甲烷、正丙醇、异丙醇、异丁醇、环己醇和其混合物,且该过渡金属与手徵性二膦配位基的错合物为选自{RuCl(对-异丙基甲苯)[(S)-BINAP}-Cl,RuHCl[(S)-BINAP]2,Ru2Cl4[(S)-BINAP]2(NEt3)的钌错合物,藉此获得具有至少95%镜像异构性过量之4-R镜像异构物。7.如申请专利范围第1项之方法,其中在步骤b中所用之该惰性溶剂为甲苯且该硷性化合物为三乙胺。8.一种合成氟苯苯醚之方法,其包括下列步骤:a)式(Ⅱ)化合物之氢化作用,其中R为一种选自(C1-C5)烷基,(C1-C5)羧烷基,选择性经取代的苯基,选择性经取代的基之基,该氢化反应系在醇性溶剂或卤化溶剂或其混合物中于1至150大气压的压力和60℃至150℃的温度下进行,且系藉由过渡金属与手徵性二膦配位基的错合物所催化,其中该过渡金属系选自于钌且该错合物系选自于下列各物所构成的族群:或式{RuX(对-异丙基甲苯)[BINAP]}+X-化合物,其中X表示卤素原子;或一种选自RuHCl[BINAP]2、Ru2Cl4[BIANP]2-(NEt3)、Ru[BINAP](OAc)2、Ru[BINAP](CF3CO2)2之化合物;或相当于下列各式之一的化合物:,其中当该醇化或卤化溶剂系选自二氯甲烷、正丙醇、异丙醇、异丁醇、环己醇和其混合物时,则该过渡金属与手徵性二膦配位基的错合物为选自{RuCl(对-异丙基甲苯)[(S)-BINAP}-Cl,RuHCl[(S)-BINAP]2,Ru2Cl4[(S)-BINAP]2(NEt3)的钌错合物,藉此获得具有至少95%镜像异构性过量之4-R镜像异构物;b)于-20℃与+25℃间之温度,在惰性溶剂与硷性化合物存在下,使式(Ⅲ)化合物与能够将-OH基转换成离去基的试剂反应,其中该试剂系选自于甲苯磺醯氯,苯磺醯氯和甲烷磺醯氯所构成的族群;接着用芝麻醇(3,4-亚甲二氧基酚)进行亲核性取代,其中该芝麻醇(3,4-亚甲二氧基酚)系以与醇性溶剂的混合物形式于硷存在下添加且将所得混合物加热2至4小时;藉此获得具有至少95%镜像异构性过量之式(Ⅳ)4R-镜像异构物衍生物,此系根据下反应方案进行:;c)用氯甲酸苯酯进行化合物(Ⅳ)之N-去烷基化,并用硷处理所得产物,而得到氟苯苯醚(Ⅰ):。9.如申请专利范围第8项之方法,其中R表示乙基。10.如申请专利范围第8项之方法,其中于该过渡金属与手徵性二膦配位基的错合物系在步骤a之的氢化混合物中当场制备。11.如申请专利范围第8项之方法,其中该氢化反应系在5至15大气压的压力和100℃至130℃的温度下进行。12.如申请专利范围第8项之方法,其中该氢化反应系在10大气压的压力和120℃的温度下进行。13.如申请专利范围第8项之方法,其中在步骤b中所用之该惰性溶剂为甲苯且该硷性化合物为三乙胺。图式简单说明:图1.1,1.2,1.3,1.4,1.5,1.6,1.7,1.8:手徵性二膦配位基之例子;1.1:BINAP1.2:BIPHEMP1.3:(5,5'-二氯-6,6'-二甲氧基-联苯-2,2'-二基)-双-(二苯基膦)1.4:(双-4,4'-二苯并喃-3,3'-基)-双-(二苯基膦)1.5:4,4'-双二苯基膦-2,2',5,5'-四甲基-3,3,-二吩1.6:PYRPHOS1.7:DIOP8:BDPP |
