发明名称 | 应用半调型相移式光罩之图案形成方法 | ||
摘要 | 一种半调型相移式光罩,其至少系由光罩基底、半调型相移层、遮蔽层所构成。半调型相移层覆盖于光罩基底表面上,且半调型相移层呈条状。遮蔽层覆盖于半调型相移层两末端,并暴露部分半调型相移层,且遮蔽层之宽度大于半调型相移层之宽度。 | ||
申请公布号 | TW200419303 | 申请公布日期 | 2004.10.01 |
申请号 | TW092106127 | 申请日期 | 2003.03.20 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 赖俊丞 |
分类号 | G03F1/08;H01L21/027 | 主分类号 | G03F1/08 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路十二号 |