发明名称 应用半调型相移式光罩之图案形成方法
摘要 一种半调型相移式光罩,其至少系由光罩基底、半调型相移层、遮蔽层所构成。半调型相移层覆盖于光罩基底表面上,且半调型相移层呈条状。遮蔽层覆盖于半调型相移层两末端,并暴露部分半调型相移层,且遮蔽层之宽度大于半调型相移层之宽度。
申请公布号 TW200419303 申请公布日期 2004.10.01
申请号 TW092106127 申请日期 2003.03.20
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 赖俊丞
分类号 G03F1/08;H01L21/027 主分类号 G03F1/08
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路十二号