一种相位移光罩

摘要

本发明系提供一种相位移光罩(phaseshiftingmask，PSM)，其包含有一透光基板、一半密集图案(semi–densepattern)以及一密集图案(densepattern)。该半密集图案系设于该透光基板上，并且系由复数个连续之相位移区域(phaseshiftregion)以及非相位移区域(non–phaseshiftregion)所构成。该密集图案系设于该透光基板上，并且系由复数个非相位移区域、相位移区域以及不透光区域所构成。