发明名称 半导体装置、动态式半导体记忆装置以及半导体装置的制造方法
摘要 本发明提供一种能够简化构造并提高信赖性的半导体装置。其特征为:在半导体基板的主表面形成形凸状的半导体层FIN,在该半导体层形通道区域,源区域及汲区域。在该半导体层的相对向之侧壁的通道区域的表面,形成一对的第一绝缘膜Gox<12>及一对的闸电极G<12>。在该半导体层的源区域近傍设置沟漕电容器TC<03>、TC<23>,其一方的电极电气性连接源区域。然后,在该一对闸电极之形成该第一绝缘膜之面的对面侧之面,与各该侧面相邻配置的沟漕电容器之间,设置比第一绝缘膜的膜厚度更厚的第二绝缘膜47。因闸电极受闸绝缘Gox与膜厚更厚的环形绝缘膜47挟持之构造,故可提高信赖性。
申请公布号 TW200419780 申请公布日期 2004.10.01
申请号 TW092135503 申请日期 2003.12.16
申请人 东芝股份有限公司 发明人 胜又龙太;青地英明
分类号 H01L27/108;H01L21/8242 主分类号 H01L27/108
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本