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1.一种用于从两种四氢酮外消旋异构物之混合 物中层析解离出外消旋异构性上实质纯的对掌四 氢酮之方法,其包括: 提供含有至少一种溶剂之液体移动相; 提供一含有具有完全光学纯度金属-有机错合物的 无机载体之固体对掌静止相;及 层析分离混合物以得到至少一种外消旋异构性上 实质纯的四氢酮。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中溶剂是选自: 低碳醇类、这些醇类之醋酸酯及丙酸酯、酮类、 醚类、四氢喃、二烷、烷类、卤化低碳烷类 、乙、及这些溶剂之组合所成之群。 3.如申请专利范围第2项之方法,其中该溶剂系选自 :乙、丙酮、醋酸乙酯、2-丁酮、乙醇、甲醇、 醋酸甲酯或其混合物所组成之群。 4.如申请专利范围第1项之方法,其中混合物之分离 是在温度40℃至80℃进行。 5.如申请专利范围第2项之方法,其中溶剂是甲醇与 醋酸甲酯之混合物。 6.如申请专利范围第1-5项中任一项之方法,其中金 属错合阳离子为钌。 7.如申请专利范围第6项之方法,其中该金属错合阳 离子是钌错合阳离子。 8.如申请专利范围第1-5项中任一项之方法,其中该 固体对掌静止相含有经疏水性处理的球形黏土物 质。 9.如申请专利范围第1-5项中任一项之方法,其中该 固体对掌静止相具有粒子大小为5至30微米。 10.如申请专利范围第1-5项中任一项之方法,其中该 液体移动相进一步含有超临界流体。 11.如申请专利范围第1项中任一项之方法,其中该 液体移动相有含超临界CO2且溶剂是一选自甲醇、 乙醇、THF、二氯乙烷、丙酮、醋酸甲酯及醋酸乙 酯所组成群之极性溶剂。 12.如申请专利范围第1-5项中任一项之方法,其进一 步包括使用单柱层析法层析分离混合物。 13.如申请专利范围第1-5项中任一项之方法,其进一 步包括使用模拟移动床层析法层析分离混合物。 14.如申请专利范围第1-5项中任一项之方法,其进一 步包括使用多柱非稳定态连续层析法层析分离混 合物。 15.如申请专利范围第1-5项中任一项之方法,其中至 少一种实质上纯的四氢酮外消旋异构物是一较 佳的外消旋异构物且混合物中两种外消旋异构物 之第二种是不欲见的外消旋异构物,且该方法进一 步包括提供具有对掌性取向之固体静止相以供滞 留不欲见的外消旋异构物。 16.如申请专利范围第1-5项中任一项之方法,其中该 金属-有机错合物具有一有机配体,该有机配体是 一种使该金属-有机错合物具有对掌性之含氮的杂 环。 17.如申请专利范围第16项之方法,其中该有机配体 是2,2-联啶。 18.如申请专利范围第16项之方法,其中该有机配体 是1,10-啡。 |
